• 間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』 製品画像

    間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』

    PR汚泥処分費削減に貢献&リサイクルにも!食品残渣、その他廃棄物も乾燥でき…

    ボイラからの蒸気を熱源とした蒸気ジャケット(間接加熱)による乾燥熱と、効率の良い熱伝達を考えた遠心造粒で乾燥させる、 安全で容易に運転ができる間接加熱式縦型乾燥機です。 ◇排水処理施設で排出される汚泥だけではなく、食品残渣やその他廃棄物等も乾燥できます。 ◇高速撹拌により乾燥過程でダマになりやすい原料も顆粒状になるので、処理時間も短縮できます。 【特長】 ■幅広い汚泥を乾燥できる ■様々な原料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社西原ネオ

  • 特殊な印刷も承ります。食品表示ラベルの製造ならお任せください! 製品画像

    特殊な印刷も承ります。食品表示ラベルの製造ならお任せください!

    PR同じ容器で中身と食品表示ラベルを変えるだけ!効率的にラインナップが増や…

    弊社では、フルカラーデジタル印刷やバリアブル(可変情報)印刷など 様々な印刷技術を駆使して商品ラベルや銘板シールの製造を行っています。 共通の容器・袋・パッケージなどに、異なるラベルやシールを貼り付けることで、 効率的にラインナップを増やせます。 現在、印刷・加工技術を事例と共にご紹介したカタログを進呈中。 また、ラベル・シールの無料サンプルも進呈中です。 【このようなお困りごと・ご要望にお...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カナエ

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令:消防法 危険物第四類第1石油類 ※詳...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで  拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』 製品画像

    工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』

    結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…

    『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直接塗布することが可能です。 (用途に応じて粘度の調節可能) また、青色ジェルのため、拭き残しが一目で確認できます。 【特長】 ■結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去でき...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

    漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

    『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます。 【特長】 ■レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環  あるい...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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