• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 溶存酸素除去システム(脱酸素装置、ストリッピングミキサー) 製品画像

    溶存酸素除去システム(脱酸素装置、ストリッピングミキサー)

    窒素ガスを利用した高効率溶存酸素除去システムです!一般的なバブリング方…

    液体中には溶存酸素が存在します。一般的には、液体中に7~10ppm程度の酸素が溶存しています。この溶存酸素を除去することで、製品の酸化による劣化を抑制し、品質を維持・向上させることが可能になります。 また工業分野では、溶存酸素を低減することで、最終製品の品質向上、生産効率の向上が可能になります。 食品向けには「サニタリー仕様」、工業向けには「フランジ仕様」や「防爆仕様」がございます。 設置場...

    メーカー・取り扱い企業: 大陽日酸株式会社

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