• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に 製品画像

    高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

    同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

    使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる=圧力を上げる=流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP-Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • 高圧断続スプレー「DP-Gun」 製品画像

    高圧断続スプレー「DP-Gun」

    各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に!1秒間に30回のノズル開閉…

    使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる=圧力を上げる=流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP-Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

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