• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • TP-99140FDR 粉末供給装置 製品画像

    TP-99140FDR 粉末供給装置

    1台で幅広い粒子サイズや供給レートに対応できます。

    日本電子株式会社製粉末供給装置は粉末をキャリアガスで搬送するタイプの連続式粉体定量供給機(パウダーフィーダー)です。 レート制御に対応している機種 (TP-99260FDR 粉末供給装置 ) もあります。 〇特長 ・汎用性 ...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • TP-99260FDR 粉末供給装置 製品画像

    TP-99260FDR 粉末供給装置

    粉末供給レート自動制御機能が搭載されました。

    日本電子株式会社 TP-99260FDR 粉末供給装置には、粉末がより安定して供給できるように粉末供給レート自動制御機能が新しく搭載されました!!外部制御も可能となりました。凝集性が高く、流動性の悪い数ミクロン以下の微粒子を、指定した粉末供給レートで...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置 製品画像

    TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置

    従来別置きであった各ユニットをワンパッケージ化し、コンパクトで手軽なシ…

    日本電子株式会社 TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置は、超高温・高純度・高化学反応場のRF熱プラズマを利用し、ナノ粒子の合成や微粒子の球状化・改質など様々な材料開発が行える研究開発装置です。 約1万度の熱プラズマ中に連続的に原料(粉体/ガス/液体)を供給し、蒸発/溶融/化学反応等のプラズマプロセッシングを行います。 〇特長 ・アルゴンが主体の熱プラズマに、酸素や水素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

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