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PR低コストで廃水処理能力を大幅に向上可能!廃水処理設備を止めることなく増…
【増設】 「処理施設の能力不足」や「設置場所が無く増設が困難」といった悩みを AT-BC装置を既設槽上に載せるだけで一発解決!低コストで廃水処理能力を大幅に向上させることができます。活性汚泥法と回転生物接触法の2つの処理法を進化させた廃水処理システムです。 【特長】 ■廃水を止める事無く増設が可能 ■工期は2週間程度 ■既設槽上にAT装置を載せるだけで能力が倍以上に ■設備投資費用は2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社バチルテクノコーポレーション
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PR【新製品】商用スケールの連続回転ろ過機CURUPOのコンセプトを活かし…
mini CURUPO(ミニクルポ)は『トップチャージによる液供給』を 特長とするベンチスケールの連続ろ過機です。 小型ながら密閉性に優れたケーシング内でろ過からケーキ剥離まで 一連のろ過サイクルを切れ目なく自動で行います。 少量のサンプルで検証した連続生産プロセスを商用スケールの CURUPOにそのまま適用できるため、 治験・サンプル供与ステージから量産へのスケールアップも ス...
メーカー・取り扱い企業: 三菱化工機株式会社 産業機械
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度(%):原液 ・温度(℃):常温 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・500ml~10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…
【処理条件】 ■濃度(%):原液 ■温度(℃):常温 ■時間:15分~2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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