排水処理システム『排水処理膜ろ過システム』

PR二次汚染物が発生せず、豊富な排水処理実績を誇る排水処理システム！

『排水処理膜ろ過システム』は、ダイオキシン・重金属を除去する 排水処理システムです。 処理水は、繊細な超高圧ポンプにそのまま再利用でき、放流可能な レベルまで処理が可能です。 定期的に自動逆洗浄する機能がついている為、安定して高度な処理 水質を得ることができます。 また、焼却施設解体工事での環境負荷の低減・最終処分費の大幅コスト 削減に貢献します。 【特長】 ■環...

メーカー・取り扱い企業： セントラルフィルター工業株式会社

SignalStar(TM) Multiplex IHC

PR【特別な機器不要・時間短縮】最短2日間で最大8プレックスの免疫組織染色…

CSTが提供するSignalStar Multiplex IHCキットは、空間生物学研究用にも使用可能な高度にシグナルも蛍光波長も検証された抗体パネルです。 高い感度と特異性をもってFFPE組織内の複数のバイオマーカーを同時に増幅し、わずか2日間で最大8種類のバイオマーカーの結果を作成できます。 ※詳細はPDFをダウンロードいただき、ご覧ください。 【プライバシーポリシーへの同意】 Cell ...

メーカー・取り扱い企業： セルシグナリングテクノロジージャパン株式会社

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

『アンラスト 70』は、短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の 心配のない鉄鋼用アルカリ除錆剤です。 フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤として効果的。 シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりませ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

処理面には良好な金属光沢が得られる！化学工業、電子工業などの業界にご使…

『マストーバ C-365A』は、銅・銅合金用の化学研磨液です。 研磨後の表面平滑性に優れ、処理面には良好な金属光沢が得られます。 処理方法は、浸漬、液中スプレー等での使用を推奨します。 【特長】 ■研磨後の表面平滑性に優れている ■処理面には良好な金属光沢が得られる ■処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト EW-R』

エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有して…

『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

株式会社三若純薬研究所　事業紹介

創立以来60年間蓄積された技術と知見でニーズにお応えします

株式会社三若純薬研究所は、ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、 受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカーです。 脱脂剤、剥離剤、表面処理剤や酸系の金属処理液など、お客様の ニーズにお応えする最適な製品を提案致します。 また、受託システムでは、お客様のご要望の数だけの製品数を少量～中量 の商業生産をも可能にし、理想的なソリュ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』

結晶化したシリカ系スケール除去に！青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度(％)：原液 ・温度(℃)：常温 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・500ml～10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ロー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト CB』

アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能！液疲労が小さく非常…

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『マストーバ SC』

配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…

【処理条件】 ■濃度(％)：原液 ■温度(℃)：常温 ■時間：15分～2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト M11』

鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適！有機アルカリタイプ

対応可能な塗装剥離液です。 有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶／200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！

剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

スト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！

タイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト RMO-C』

苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適！

剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに3～7％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M6』

ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます

イプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト MP』

溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

スト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ IC4』

添加剤を加えることで液寿命を長くすることが可能！電子工業の業界に使用さ…

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～40℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト RMO-K』

溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

着塗装剥離剤です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト CA』

鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適！液性が中性の為、素材を選びま…

ト CA』は、各種被膜を剥離する中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所