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    【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ

    PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…

    粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌(撹拌)する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌(撹拌)を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で...

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    メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社

  • 【事例】GCIBを用いたSiO2中アルカリ金属の深さ方向濃度分布 製品画像

    【事例】GCIBを用いたSiO2中アルカリ金属の深さ方向濃度分布

    SiO2膜の不純物の評価

    アルカリ金属であるLi,Na,Kは半導体における各種故障原因の要の元素です。これらは測定時に膜中を移動してしまう可動イオンと言われており、正確な分布を得ることが困難とされてきました。 今回、スパッタイオン源にGCIB(Arクラスター)を用いたTOF-SIMSの深さ方向分析を行うことにより、常温下の測定でもアルカリ金属の移動を酸素スパッタガンに比べ抑えられることがわかりました。この測定を行うことで...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定 製品画像

    【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定

    ICP-MS, GDMSにより基板表面と内部とを切り分けて分析

    半導体材料に含まれる不純物は、リーク電流の発生やデバイスの早期故障等、製品の品質に影響する場合があります。従って、材料に含まれる不純物量を把握することは、製品の品質向上において重要です。本資料では、パワーデバイス材料として注目されているSiC基板について、基板表面に付着した不純物をICP-MS、基板中の不純物をGDMSで分析した事例をご紹介します。 測定法:ICP-MS・GDMS 製品分野:パ...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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