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プローブに原子を採用した表面分析装置(CAICISSの発展版)
結晶方位・極製は15分で一目瞭然!帯電の影響がなく安定した表面分析が可…
『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法(CAICISS)を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル
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結晶方位・極製は15分で一目瞭然!帯電の影響がなく安定した表面分析が可…
『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法(CAICISS)を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル
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