BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

【オプション例】 ・反射電子抑制ユニット ・基板加熱 ・基板冷却（低温成膜） ・基板回転機構 ・プラネタリー回転機構 ・膜厚コントローラー（自動成膜） ・ロードロック機構 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 ...

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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

JEBG series 直進形電子銃・電源

電子ビームは広範囲に高速で走査する事ができます。

日本電子株式会社 JEBG series 直進形電子銃・電源は、真空中で金属や酸化物を蒸着または溶解するための高出力の電子ビーム源です。連続的に走行する幅広の長尺フィルムや大面積のガラス基板上へハイレートで成膜します。また電子ビーム溶解用として、高融点金属のインゴット作製・精錬に使用されます。 〇特長 ・広範囲に高速で走査可能 ・様々なビーム照射パターンやエリアを作成可能 ・溶融面や...

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高速X線CTスキャナ CTV110μFPD

産業機器レベルの信頼性と耐久性、連続使用可能

日本装置開発株式会社 CTV110μFPDは、高速X線CTスキャナ（工業用高速X線検査装置）です。高精度ユーセントリック機構と高精度テーブル搭載で、プリント基板・BGA検査等に最適です。 〇特長 ・ボード系エレクトロニクス部品対応 ・業界従来CT機比約30倍高速スキャンと高速再構成 ・高倍率：最大500倍（理論値） ※詳細はPDFをダウンロードしていた...

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