KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』

酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー

【ラインアップ】 ■ILD3013 　・主成分：ヒュームドシリカ 　・ケミカル：アンモニア 　・砥粒濃度(wt%)：13.7 　・pH：10.5 　・砥粒サイズ(nm)：85 ■ILD3225 　・主成分：ヒュームドシリカ 　・ケミカル：KOH 　・砥粒濃度(wt%)：25.7 　・pH...

メーカー・取り扱い企業： アンカーテクノ株式会社

『気中パーティクルカウンター　レンタルサービス』のご紹介

必要な時、清浄度測定をリーズナブルに！

【仕様(一部抜粋)】 ■粒径区分：0.3/0.5/1/2/3/5μｍを同時測定 ■試料流量：28.3L/min(1CF/min)、排気口 HEPA フィルタリング ■最大可測粒子濃度(計数損失5％以下)：400,000個/28.3L ■光学方式：側方光散乱方式 ■サンプリングチューブ長：最大8m ※詳しくはPDFをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： アンカーテクノ株式会社