除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

ナノサイズゼオライト　ＺｅｏａｌZSM-5

ＺＳＭ－５　疎水性

） 構造コード：MFI 単位胞組成：Nan[AlnSi96-nO192]･xH2O 細孔径:6Å 一次粒子径：100nm~ SAR:200 ・代表的な高シリカの合成ゼオライトで、Al濃度の減少と共に疎水性が増します。特にAl を含まないものは silicalite-1 と呼ばれ、高い疎水性を示します。 ・細孔径はベンゼン環より少し大きく、芳香族炭化水素の触媒反応に特異な選択性を示...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社中村超硬