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5件 - メーカー・取り扱い企業
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83件 - カタログ
352件
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加熱乾燥工程の自動化に最適!放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢…
当製品は、全自動生産ラインに組み込み可能な、インライン対応加熱炉です。 熱風を使用しない、炉自体を熱源とする加熱炉で、放熱ロス・周辺環境の温度上昇を抑えた 省エネな加熱炉です。 均熱性能に優れオーバーシュートの無い、長時間の加熱が可能。 基板・トレイ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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加熱工程の自動化に貢献!昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法で…
当製品は、全自動生産ラインに組み込み可能な、インライン対応加熱炉です。 基板・トレイをローダーから取り込み、枚葉処理にて加熱ステージへ 搬送し昇温いたします。 熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用し、省エネ・省スペース性に 優れた加熱炉で...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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