• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • テカンは第97回日本生化学会大会へ出展します 製品画像

    テカンは第97回日本生化学会大会へ出展します

    PR会期中にブースにてアンケートに回答してくださった方にテカングッズをプレ…

    第97回日本生化学会大会 日程:2024年11月6日(水)~8日(金) 場所:パシフィコ横浜ノース テカンブース:No.5~6 <展示内容> ■小型シングルセル自動分注機 Uno Single Cell Dispenser 面倒な機器のセットアップ必要なし、専用カートリッジですぐに分注可能。 ■卓上型微量分注デジタルディスペンサー D300e アッセイに必要な量のサンプ...

    メーカー・取り扱い企業: テカンジャパン株式会社

  • 紫外線酸化装置『FOVシリーズ』 製品画像

    紫外線酸化装置『FOVシリーズ』

    真空紫外線を効率よく照射し、水中の有機物を酸化分解!ppbオーダーのT…

    半導体産業で使用される水は、ますます高純度化され、超純水中の有機物 (TOC) 濃度に対する要求値も厳しくなっています。 『FOVシリーズ』は高出力低圧水銀ランプから発生する真空紫外線 (185nm) を効率よく照射し、水中の有機物を酸化分解。ppbオーダーのTOCを低減 させるのに適しています。 また、縦型設計ですので設置スペースが限られた場所でもご使用いただけます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: フナテック株式会社 本社 

  • ステリエアーシステム/表面殺菌システム 製品画像

    ステリエアーシステム/表面殺菌システム

    作業場内の空気を循環させ、クリーンな環境を提供!2種類の紫外線関連製品…

    【ステリエアーシステム 特長】 ■運転時間を24時間タイマーにより任意設定できる ■UVランプまたはオゾンランプ等の消耗品の交換だけで  面倒なメンテナンスは必要としない ■UV式オゾン発生装置は有害な窒素酸化物(NOx)を生成しない ■オプションで架台付も製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: フナテック株式会社 本社 

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