【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ

分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！

蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の...

メーカー・取り扱い企業： 河合光学株式会社