• MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』 製品画像

    無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

    PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…

    当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • HEF DURFERRIT JAPAN株式会社 事業紹介 製品画像

    HEF DURFERRIT JAPAN株式会社 事業紹介

    世界の環境・エネルギー問題の改善に貢献するH.E.Fグループ

    1953年、フランスにてトライボロジー研究センターとして創業したH.E.Fグループは、物質の表面処理加工に関する多くの技術を開発し、特許を取得、ライセンスを世界中に販売してきました。 更に、近年では樹脂製筐体への表面処理プロセスも開発し、...

    メーカー・取り扱い企業: HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

  • ディファレンシャル部品向け 窒化処理 製品画像

    ディファレンシャル部品向け 窒化処理

    機械強度・耐摩耗性の向上!ディファレンシャル部品に適した塩浴軟窒化処理…

    【HEFの強み】 ■豊富なトライボロジー研究の知識 ・包括的な考察をベースとした好適ソリューション ■処理設備及びソルト ・全て自社設計、自社製造 ■ワールドワイドサービス ・世界工場数21ヵ国70拠点 ※詳しくはPDF資料を...

    メーカー・取り扱い企業: HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

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