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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
0kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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