• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置 製品画像

    GCIB(ガスクラスターイオンビーム)装置

    コンパクト構造で、シンプルで低価格な設計になっています。超平坦化加工と…

    本装置は、数十~数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム(GCIB)を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。 【特長】 ■ナノオーダーの微細加工に適しています ■Ra 数ナノメートルの平坦化加工 ■反応性ガス処理対...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

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