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ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステ…
「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭載しています。 低濃...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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