ウェビナーのご案内│LC と GC の基礎 ～ 食品分析編

PRクロマトグラフィーの基礎を学びたい方、必見のウェビナーです！

- GC は理解しているけれど LC は苦手 - LC を使ってきたけれど GC は初心者 - LC と GC の原理や違いを知りたい方 「いまさら聞けない」が聞けるウェビナーです。2025 年の第一弾は食品分析にフォーカスします。 開催日│ PART 1 2025年1月23日（木）15:00-16:00 PART 2 2025年1月28日（火）15:00-16:00....

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

シングルセル解析の新しいソリューション

PR今まで見落としていた細胞内シグナル伝達をシングルセルレベルで解析可能

InTraSeq (Intracellular Protein and Transcriptomic Sequencing) は、RNA量だけでなく、細胞内および細胞表面の両方のタンパク質を同時検出できる、シングルセルレベルのシグナル伝達経路の解析が可能な新たな技術であり、10x Genomics社のSingle Cell 3’ Reagentキットに対応します。 ※詳しくはPDFをダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： セルシグナリングテクノロジージャパン株式会社

マイクロ波ナノ結晶生成装置

導波管タイプを用い加熱効率を上げる為のショートプランジャーを採用した定…

本装置は、10mL～30mLの溶媒液に注入された有機ナノ結晶を、 マイクロ波を用い効率よく生成するマイクロ波ナノ結晶生成装置です。 手動注入を除き、自動運転となっております。 又、生成条件をいろいろ変え...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x 300H　チャンバーサイズ ※詳しくは外部リンクページ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『高温ガス雰囲気炉』

デジタルプログラムPID制御を採用！下部から試料挿入可能な実験用炉です

【仕様】 ■型式：IZU－HGH－2500 ■ヒーター内寸法：φ140mm × 300mmH ■均熱熱処理部：φ50mm × 100mmH ■温度：常用 1500℃ ■真空度：×10^-1Pa ■雰囲気：Ar O2 ■ヒートエレメント：SiCヒーター ■制御：デジタルプログラムPID制御 ■排気系：ロータリーポンプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

6打点式（ハイブリット型）！水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入ります。 水素排気に安全性が設計されています 【特長】 ■室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計 ■ガス2系統が入る ■素排気に安全性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『高温試料急冷試験炉』

急冷が可能！試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です

【仕様】 ■真空：10^-4Pa ■ガス導入：2系統プログラム温度調整器 ■試料サイズ：φ30 x 60（白金ワイヤー吊り下げ式） ■温度：Max1500℃（SiCヒーター） ■電源：3相200V 60A ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

真空(ガス置換)加熱炉

Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能で…

O2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系　RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

【仕様】 ■構成：成膜室および排気系、ガス導入系 ■到達圧力：6.7 x 10^-5Pa以下（排気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

【仕様】 ■SUSチャンバー ■到達圧力　7×10^-2Pa ■基板ホルダー　φ1インチ ■抵抗加熱蒸着源　Wボートタイプ　2基 ■DP1500L/s ■RP220L/m ■ピラニー真空計　電離真空計　標準装備 ■シャッター機構 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

磁場中加熱炉

従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱…

列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR.　分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック