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少量生産に好適!『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有
PR貼り付け速度は最大16m/分、電気消費量は400VA!当社の2種類のラ…
当社で取り扱っている、卓上型上面用ラベラー『MODEL ELF-20』について ご紹介いたします。 操作や型替えがとても簡単で、少量生産に好適。 ホットスタンププリンターと透明ラベルセンサーの2つの オプションがございます。 また、丸ボトル用の卓上型ラベラー「MODEL ELF-50」もご用意しております。 【MODEL ELF-20の仕様(抜粋)】 ■電源:AC100V、50/60Hz、単...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所
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全自動&半自動キャッパー ※PPキャップなど様々なキャップに対応
PR様々なキャップに対応可能な巻締機!飲料、化学薬品業界で実績がある全自動…
吉村鉄工所の全自動&半自動キャッパーは、どちらにも対応可能で、 全自動では10~40本/分の巻締めが行え、様々なサイズのキャップに対応可能です。 溶液に応じた材質の変更や防爆仕様での製作も可能です。 飲料、化学薬品業界などで多数採用いただいております。 ★本製品は自動キャップ巻締機「E-3B(K)-O(PP;CC;SC)型」、 半自動キャップ巻締機「AF-3i-O(PP;CC;SC)型」のオ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社吉村鉄工所
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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入退室管理や、勤怠管理、来場者管理に!認証画像記録用カメラ搭載のセキュ…
水) ■使用環境:温度-20℃~50℃/湿度90%以下 ■本体寸法:58mm(W)×191mm(H)×62mm(D) ■電源/電流:OUTPUT:DC24V 2.7A / INPUT:AC100V ■重量:約360g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
容量に因る) 最大降温速度 10K/min.(※対象物の熱容量に因る) 窒素ガス 0.35~0.4 MPa(3.5~4 bar) プロセスガス供給ライン 手動ガス流量計 コントローラ Eurotherm 2416 プロファイルプログラム登録数 1プログラム プログラムステップ数 最大:16ステップ プロセスデータ保存先 USBメモリ 加熱プレート冷却方式 空冷 電源仕様 単相100V
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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ユーザー登録数20,000、ログ保存件数63,488まで可能のセキュリ…
仕様環境:温度 -20℃~-50℃/湿度 90%以下 ■本体寸法: 88mm(W)×175mm(H)×43.5mm(D) ■電源/電流: OUTPUT:DC24V 2.5A/INPUT:AC 100V ■重量:約380g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Felica/MIFARE対応。顔、指紋同時認証でハイセキュリティを実…
c以下 ■使用環境:温度-20℃~50℃/湿度90%以下 ■本体寸法:150mm(W)×206mm(H)×46mm(D) ■電源/電流:OUTPUT:DC24V 2.5A/INPUT:AC100V ■重量:約600g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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偽造指紋を遮断する光学式センサー搭載!指紋・ICカード・パスワード認証…
■使用環境:温度 -20℃~50℃/湿度 90%以下 ■本体寸法:88mm(W)×175mm(H)×43.5mm(D) ■電源/電流 :OUTPUT:DC24V 2.5A / INPUT:AC100V ■重量:約380g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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