• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 超純水装置『Aquanex』 製品画像

    超純水装置『Aquanex』

    PRセルフサービスデザインによる利便性だけでなく、インテリジェントなユーザ…

    超純水装置『Aquanex』のご紹介です。 【主な特長】 Aquanexシステムユーザーインターフェース ・大型のフルカラーディスプレイは水質やタンク残量を遠くからでもはっきりと確認できます ・採水データをUSBメモリからダウンロード可能 Aquanexタッチスマートディスペンサー ・扱いやすいピペットスタイルのディスペンサー ・ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンで直感的に操作 ・スタンド...

    • 7201031 - Aquanex 30L Complete.jpeg
    • Aquanex Touch UI.jpeg
    • Aquanex Alarm Screen Model.jpeg
    • Aquanex Volumetric Dispense Setting.jpeg
    • Aquanex Consumable Change 2.jpeg

    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

  • 12・2・1・71号 大型機 石川式撹拌擂潰機 製品画像

    12・2・1・71号 大型機 石川式撹拌擂潰機

    ・石川式撹拌擂潰機のルーツモデル ・「攪拌」、「擂り潰し」、「混合」…

    ・擂潰の同時処理が可能 (3)駆動トルクが高く高粘度体の処理が可能 (4)ボールミル等に比べて処理エネルギーが低く「マイルドな加工」が可能 【製品の基本仕様】 型番 加工容積 12号  10L 2号  20L 1号 36L 71号 60L ・石川式撹拌擂潰機のルーツモデル ・大容量の撹拌擂潰に好適 ・鉢がモータで杵と逆方向に回転する...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社石川工場

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • Final_300_21-CAN-51700 SignalStar MVP 3rd Party Banners_Ad1 A New Star-300x300_v2-JP.jpg
  • banner_202410_jp.jpg

PR