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小流量ガスの除/加湿に『FORBLUEサンセップSWTシリーズ』
PR周囲環境を利用して除湿/加湿が可能なチューブ。水蒸気のみを高速で移動さ…
【主な特長】 ◇除湿/加湿 ・周囲環境の湿度近くまで除湿/加湿可能 ・水蒸気以外のガス成分を保持 非多孔膜を使用しているため、ガス成分はほぼそのままで除湿/加湿ができます。 ・チューブ形状で取り回し自由 製品を曲げたり、束ねたりして使用することもできます。 ◇除湿 ・ドレン処理不要 除湿した水分は水蒸気として周囲環境中に排出されるため、ドレン処理は不要です。 ◇...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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中食需要に好適!袋を開けずにレンジ調理できる包材3タイプのご紹介
PRコンビニ総菜に採用実績のある「レンジTEC」のほか、レトルト食品、冷凍…
用途別に、下記ラインナップを取り揃えております。 <ボイル・レトルト食品用途> ・レンジTEC(総菜やカレーなどにおすすめ) ⇒ スタンドパウチ仕様のため、袋のまま喫食することも可能です! ・レトルト用レンジ袋(液物・ペースト系におすすめ) ⇒ ウイング部に蒸気口がある為、 袋を寝かせた状態でも安心してご使用いただけます! <冷凍食品用途> ・イージーレンジ...
メーカー・取り扱い企業: フィルネクスト株式会社 本社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …
当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発~量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロー...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
ルミ合金 装置サイズ(WxDxH) 370x210x120 mm 装置重量 約10kg 加熱プレートサイズ(WxD) 220mmx155mm 有効対象物サイズ(WxDxH) 210mmx150mm 最大到達温度 250℃ 加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱) 温度制御方式 P.I.D.制御方式 プレート上面内温度差 設定温度に対して±1.5%以内 最大昇温速度 25K/m...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Felica/MIFARE対応。顔、指紋同時認証でハイセキュリティを実…
a/MIFARE ■通信:TCP/IP、Wiegand IN/OUT、RS232C、RS485 ■認識速度:1sec以下 ■使用環境:温度-20℃~50℃/湿度90%以下 ■本体寸法:150mm(W)×206mm(H)×46mm(D) ■電源/電流:OUTPUT:DC24V 2.5A/INPUT:AC100V ■重量:約600g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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