三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。...NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている，例えば、エッチャント（ドライエッチング）として。 化学蒸着（CVD、Chemical Vapor Deposit...

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光重合開始剤369/CAS:119313-12-1

光重合開始剤369は、フリーラジカル光重合反応を開始するための高感度範…

光重合開始剤369は、フリーラジカル光重合反応を開始するための高感度範囲、高効率の紫外線吸収性紫外線開始剤であり、184または651、907、ITXなどの適切な共開始剤と組み合わせて、紫外線硬化液やコーティングに使用することが可能です。...CBNumber： CB0412472 英語化学名： Photoinitiator369 化学名： 光重合開始剤369 分子式： C23H30N2O2 ...

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