紫外線殺菌装置　紫外線ランプ搭載水殺菌装置　8/21~展示会出展

PR【国際水産養殖技術展2024出展】紫外線（UV）技術は、細菌、ウイルス…

きれいな水を提供するための費用対効果の優れたソリューションへの需要はいつの時代も高く、これからも益々高まることでしょう。 UV殺菌は、細菌やウイルスから水を保護するために最も厳しい要件を満たしてさまざまな課題を解決します。近年の目覚ましい進展により、UV殺菌は幅広い水質と用途に対応可能な代替手段となっています。技術および設計構成の改善により、殺菌プロセスだけでなく、促進酸化処理（AOP：Ad...

メーカー・取り扱い企業： 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部　ＵＶ水殺菌システム部

無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm～高濃度1200ppm まで…

当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05～高濃度1200ppm（校正値1000ppm　検知管使用　当社...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラステック愛知 本社

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 　添加することにより、アルカリ単体では困難な微細...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所