マイクロリアクターULREA（アルリア）シリーズ

PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

ULREA（アルリア）シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA（アルリア）の特長】 1. 確実なスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： エム・テクニック株式会社

【AI顔認証と連携】自動ドアシステム『アシスト・スイング』

PRドアに触れずに自動開閉！既存のドアに後付け設置が可能。カギもカードも手…

『ASSIST SWING Slim-SW300』は、既存のドアに後付け設置が可能な スイング自動ドアシステムです。 高性能のAI顔認証デバイスと自動ドアの連携でセキュリティをより強化し、 安心・安全を確保。 【こんなことにお困りではありませんか】 ・台車を押しながらドアを開けることが面倒 ・カードキーを忘れてドアを開けられない ・いちいち荷物を置いてドアを開閉している ・高い衛生環境が求めら...

メーカー・取り扱い企業： ゴールドマン株式会社

電子顕微鏡用液体ヘリウム冷却装置

トランスファーチューブはオリジナルの3重管式を採用！ヘリウムの消費量を…

【仕様】 ■保障最低到達温度：15K以下（実績4.5K） ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：15K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約60分 　（高倍率で長時間の定点温度測定の場合、状態が安定するまで時間がかかる場合があります） ■...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

液体ヘリウム連続フロークライオスタット

フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価など光学的測定をサポートします…

【仕様】 ■最低到達温度：4.2K以下 ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：4.2K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約40分 ■サンプル交換方式：真空ブロー後、上部蓋を開けサンプル交換 ■付属品：専用LHeトランスフ...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

GM冷凍機型クライオスタット

特別な架台を必要とせずに電磁石に設置させる事が可能！最低到達温度は15…

【仕様】 ■最低到達温度：15K以下 ■冷却方式：2段式GM冷凍機 ■温度コントロール範囲：15K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.15K以内 ■冷却時間：20Kまで約2時間（VSM用は約3.5時間） ■サンプル交換方式：トップローディング ■付属品：自動GHe加圧装置...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

コンパクトディジタル　マスフローコントローラ

300mmウエハープロセスに対応

ワイドレンジでの高精度、高速応答を実現したマスフローコントローラ...【特徴】 ■メーカー：日立金属株式会社 ■仕様：精度±0.5%　応答性1.5秒以内(設定値の±2%,0.7〜1.2秒 typ) ■ガス種：ご注文時にご指定 ■流量範囲：フルスケール　10SCCM〜30SLMでご注文時にご指定 ■本体材質：SUS316L、内面特殊電解研磨仕様 ■継手サイズ：1/4UJRタイプ、各社IG...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

流量計内臓型　ガス混合装置

流量比混合方式を採用

範囲：10ML/min〜20L/min ■適応ガス：Air,N2,O2,He,Ar,CO2 ■精度：FS±2% ■使用温度範囲：4〜40℃ ■接続口：Rc1/4” ■寸法：150(W)x300(D)x240(H)mm □その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所