• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • まるごと洗える撹拌機 ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ 製品画像

    まるごと洗える撹拌機 ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

    PRいつも清潔 まるごと洗える撹拌機 オイルやグリースは不使用

    水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式:RJ02-ADS ■回転数:約350~1200rpm ■接液材質:(軸)SUS304/(翼)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社

  • 樹脂高耐久反射防止膜 製品画像

    樹脂高耐久反射防止膜

    対応基板はCOP(ゼオネックス、アペル)!当社の『樹脂高耐久反射防止膜…

    伊藤光学工業株式会社は、車載用光学部品として高い耐久性要求に応えた 樹脂基板用反射防止膜を実現しました。 耐久性試験において、125℃×400h、105℃×1000h、85℃85%×1000hで 異常なし。 対応基板はCOP(ゼオネックス、アペル)です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問合せください。 【特長】 ■耐久性試験 ・125℃×400h:異常なし ・105℃...

    メーカー・取り扱い企業: 伊藤光学工業株式会社 光学ハクマク事業部

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