除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

高周波溶着機　電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」　簡単操作で高い生産性を実現…

「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

メーカー・取り扱い企業： 山本ビニター株式会社

水切乾燥システム＜HFE溶剤による水切り・乾燥のメカニズム＞

HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分を装置外へ確実に取り除きます！

当社で取り扱う、「水切乾燥システム」のHFE溶剤による 水切り・乾燥のメカニズムについてご紹介いたします。 洗浄されたガラス基板は水を付着したまま、HFE溶剤中に浸漬。 超音波の作用と純粋と溶剤との密度差により、簡単にガラス基板から 剥離され、急浮上し水分離槽へ。 ガラス基板はHFE溶剤の蒸気中で蒸気洗浄をして、乾燥層では付着した HFE溶剤を除去し、乾燥完了となります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダキ 本社