• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • 傾斜計 傾斜角検出器「CM-961A」:マコメ研究所 MEMS 製品画像

    傾斜計 傾斜角検出器「CM-961A」:マコメ研究所 MEMS

    傾斜計「CM-961A」はMEMS加速度計を利用した傾斜センサーです。…

    可) (角度指定は検出角度の範囲内)  ・応差0.5°~1°  ・NPNトランジスターオープンコレクター出力 ●環境  ・保護構造IP67(IEC規格)  ・使用温度範囲-20℃~60℃(ただし、結露、氷結しないこと)  ・使用湿度範囲35~95%RH(ただし、結露しないこと)  ・耐衝撃性490.5m/s2  ・耐振動性98.1m/s2(X、Y、Z方向各2時間) ●...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社

  • リニアエンコーダー(リニアスケール)SI-140 磁気スケール 製品画像

    リニアエンコーダー(リニアスケール)SI-140 磁気スケール

    リニアエンコーダー 小型、軽量な磁気式インクリメンタルスケールシステム…

    く採用されている出力形式です ・ヘッドとスケールとの距離1~7mm ・供給電圧 DC10~26V ・保護構造IP67(IEC規格準拠) ・MOS FET出力 (別途ラインドライバータイプ有り) ・出力コード1m (末端コネクタータイプを指定していただくと、延長コードを利用可能。5mまで延長可能 ラインドライバータイプは10mまで延長可能) ・応答速度最大600m/min ・使用温度範囲-20~+60℃

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社

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