• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • アクティブシステム『爆発抑止システム』 製品画像

    アクティブシステム『爆発抑止システム』

    爆発の発生直後を感知!爆発が急激な圧力上昇を起こす前に早期抑止するシス…

    【性能(抜粋)】 ■爆発抑止システムに使用される消火剤  ・重炭酸ナトリウムまたはDessikarb(サニタリーグレード) ■機器容積:0.5m³〜1000m³ ■雰囲気温度:−34℃〜60℃ ■ガスの燃焼速度:30cm/s~60cm/s ■機器接続の配管の径:2インチ〜36インチ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ファイク・ジャパン合同会社

  • 爆発消炎ベント『FlameQuench II』 製品画像

    爆発消炎ベント『FlameQuench II』

    火炎の出ない爆発放散を実現した、第2世代の爆発消炎ベント

    『FlameQuench II』は、第1世代の爆発消炎ベント「FlamQuench」の 課題を大幅に改善したモデルです。 消化装置による圧力損失による爆発放散効果の減少が大きいことが検討 課題でしたが、大気への爆発放散時の80%が維持されています。 放散ダクトが不要となりますので、最低限の爆発放散効果の減少だけで 屋内での爆発放散を実現します。また未燃焼粉じんの放出による二次爆発...

    メーカー・取り扱い企業: ファイク・ジャパン合同会社

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