バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

ットなどにも処理できます。 【仕様】 機能：圧力調整・電力調整・回転数調整・放電タイマー 　　　脱着式チャンバー・チャンバーの確度調整 　　　真空ポンプ込み 電源：AC100V 50/60Hz サイズ：本体 W720×D450×H450 　　　　チャンバー　φ210×H200 【オプション対応致します】 ・チャンバーサイズ変更 ・RFタイプ対応 ・タッチパネル操作 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

使い勝手の良い真空プラズマ装置の廉価版！テフロン親水化や各種素材の撥水…

重量 80kg 電源出力 300W(13.56MHz) ガス系統 1系統　 ※オプションにて複数系統対応可能 ガス制御 マスフローコントローラー 電源 100V, 15A (50Hz/60Hz)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体