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    バラっこりー

    PR面倒な花蕾バラシ作業も簡単・らくらく!切断箇所の変更も可能

    当社で取り扱う、『バラっこりー』をご紹介します。 操作が簡単で、受皿に置くだけの製品。刃物変更により切断箇所の 変更も可能です。花蕾部は前方へ、茎部は側面へ排出します。 製品の大小によって使い分け可能で、ラインアップにはダブルと シングルがございます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ダブル 仕様】 ■能力:約30個/分 ■機械寸法:1,000(W)×1,600(L)×1,500...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イナモク

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

    『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • SMART-HT-TAG (HF & UHF) 製品画像

    SMART-HT-TAG (HF & UHF)

    耐熱環境対応 (240℃/30分) HF & UHF Hard タグ

    PPSモールド加工をした 耐熱環境対応HF/UHFタグ 200℃/60分、220℃/45分、240℃/30分の環境下で使用できる 耐熱UHF Hard タグ。 国際認証機関:IEC86.2.6及びIEC68.2.29規格対応 IP68 ※また、実験・デ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    対して±1%以内(対象物:Φ300mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(3.5~4bar) ■コントローラ:7インチタッチパネルコント...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    ) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■プログラムステップ数:最大50ステップ ■プロセスデータ保存先:USBメモリ/Ethernet ■電源仕様:2x三相200V 50/60Hz 最大40A(合計80A) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • スタック式加熱炉 硬化炉・乾燥炉 製品画像

    スタック式加熱炉 硬化炉・乾燥炉

    加熱乾燥工程の自動化に最適!放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢…

    【仕様】 ■装置構成:加熱炉+装置内搬送 ※加熱炉単体も対応 ■対応温度:60℃~200℃ ※温度設定は一定 ■炉室サイズ:W50~×D150~×H25~ ※それぞれ最大サイズは諸条件の検討が必要です ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉 製品画像

    ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉

    加熱工程の自動化に貢献!昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法で…

    【仕様】 ■装置構成:加熱炉+炉体内搬送 ■対応温度:60℃~350℃ ※温度プロファイル作成可 350℃以上は要検討 ■ステージ数:2~10程度 ※2列式対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ200mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):600K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hP...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    ) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■プログラムステップ数:最大50ステップ ■プロセスデータ保存先:USBメモリ/Ethernet ■電源仕様:2x三相200V 50/60Hz 最大50A(合計100A) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    ) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■プログラムステップ数:最大50ステップ ■プロセスデータ保存先:USBメモリ/Ethernet ■電源仕様:2x三相200V 50/60Hz 最大40A(合計80A) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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