除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

塩水噴霧試験

高度な分析と”考察力”でお客様の問題解決！耐食性を評価する塩水噴霧試験

【塩水噴霧複合サイクル試験】 ＜試験規格：JASO M609,610　JIS H 8502＞ ■複合サイクル試験条件 　・塩水噴霧:(35±1°C 5%NaCl 0.5h) 　・乾燥:(60±1°C 4h) 　・湿潤:(50°C±1°C 95%RH...

メーカー・取り扱い企業： イビデンエンジニアリング株式会社 環境技術事業部

オゾン暴露試験

高度な分析と”考察力”でお客様の問題解決！オゾン暴露試験のご紹介

暴露試験装置の仕様】 ■型式：スガ試験機(株) OMS-HN OSM-HE OSM-H ■試験槽内寸法：500(W)×500(D)×500(H) [mm] ■温度調節範囲：室温+10[°C]~60[°C] ■オゾン濃度範囲：0.2~1.0[ppm]@紫外線ランプ方式 　　　　　　　　　1~200[ppm]@無声放電方式 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： イビデンエンジニアリング株式会社 環境技術事業部