バラっこりー

PR面倒な花蕾バラシ作業も簡単・らくらく！切断箇所の変更も可能

当社で取り扱う、『バラっこりー』をご紹介します。 操作が簡単で、受皿に置くだけの製品。刃物変更により切断箇所の 変更も可能です。花蕾部は前方へ、茎部は側面へ排出します。 製品の大小によって使い分け可能で、ラインアップにはダブルと シングルがございます。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ダブル 仕様】 ■能力：約30個/分 ■機械寸法：1,000(W)×1,600(L)×1,500...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イナモク

遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出！

PRコンパクトな装置で遺伝子増幅から検出まで最短30分【食品・検査分野など…

GENEMAL-ジェネマル-は、LAMP法による「等温遺伝子増幅」と「蛍光検出」を短時間で行うことができる小型の蛍光検出装置です。本装置はヒートブロックを有し、装置搭載のタッチパネルで測定条件を設定することで反応条件の最適化が可能です。また、リアルタイムに蛍光を検出することで遺伝子増幅をモニターすることができ、予め設定したパラメーターでの自動判定も可能です。 さらに、同時発売の食中毒菌検出用LA...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッポンジーン

SMART-HT-TAG (HF & UHF)

耐熱環境対応 (240℃/30分) HF & UHF Hard タグ

PPSモールド加工をした　耐熱環境対応HF/UHFタグ 200℃/60分、220℃/45分、240℃/30分の環境下で使用できる 耐熱UHF Hard タグ。 国際認証機関：IEC86.2.6及びIEC68.2.29規格対応 IP68 ※また、実験・デ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

対して±1%以内（対象物：Φ300mmウエハ時） ■最大昇温速度（対象物の熱容量に因る）：150K/min. ■最大降温速度（対象物の熱容量に因る）：90K/min.（T=450℃>200℃）、60K/min.（T=200℃>100℃） ■チャンバー真空耐久度：0.1Pa（10-3hPa） ■窒素ガス：0.35～0.4MPa（3.5～4bar） ■コントローラ：7インチタッチパネルコント...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

） ■プロファイルプログラム登録数：最大50プログラム ■プログラムステップ数：最大50ステップ ■プロセスデータ保存先：USBメモリ/Ethernet ■電源仕様：2x三相200V 50/60Hz 最大40A（合計80A） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

スタック式加熱炉　硬化炉・乾燥炉

加熱乾燥工程の自動化に最適！放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢…

【仕様】 ■装置構成：加熱炉＋装置内搬送　※加熱炉単体も対応 ■対応温度：60℃～200℃　※温度設定は一定 ■炉室サイズ：W50～×D150～×H25～ ※それぞれ最大サイズは諸条件の検討が必要です ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ウォーキングビーム搬送式　加熱炉・硬化炉

加熱工程の自動化に貢献！昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法で…

【仕様】 ■装置構成：加熱炉＋炉体内搬送 ■対応温度：60℃～350℃　※温度プロファイル作成可　350℃以上は要検討 ■ステージ数：2～10程度　※2列式対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

配列IRヒーター（下部加熱） ■温度制御方式：P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差：設定温度に対して±1%以内（対象物：Φ200mmウエハ時） ■最大昇温速度（対象物の熱容量に因る）：600K/min. ■最大降温速度（対象物の熱容量に因る）：200K/min.（T=650℃>400℃）、60K/min.（T=200℃>100℃） ■チャンバー真空耐久度：0.1Pa（10-3hP...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

） ■プロファイルプログラム登録数：最大50プログラム ■プログラムステップ数：最大50ステップ ■プロセスデータ保存先：USBメモリ/Ethernet ■電源仕様：2x三相200V 50/60Hz 最大50A（合計100A） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

） ■プロファイルプログラム登録数：最大50プログラム ■プログラムステップ数：最大50ステップ ■プロセスデータ保存先：USBメモリ/Ethernet ■電源仕様：2x三相200V 50/60Hz 最大40A（合計80A） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社