• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • ペルフルオロイソブチロニトリル C4F7N 42532-60-5 製品画像

    ペルフルオロイソブチロニトリル C4F7N 42532-60-5

    ペルフルオロイソブチロニトリル C4F7N 42532-60-5

    4710はSF6の代替品として環境に優しい。電力機器の絶縁やアーククエンチングに使用され、優れた絶縁特性、広い温度範囲を持っており、SF6に比べて環境への影響を大幅に削減することができる。ある圧力において、純粋なNovec 4710ガスの比誘電率はSF₆の2倍です。 このSF₆の代替ガスは、希ガスと混合した場合、地球温暖化係数(GWP)が低く、オゾン層破壊係数(ODP)がゼロです。 4710ガスは...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

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