• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • インライン加熱殺菌システム 製品画像

    インライン加熱殺菌システム

    スタティックミキサーを内蔵した熱交換器で高効率な加熱殺菌を実現

    【仕様例】 調味液:1000kg/h 入口温度:30℃ 加熱温度:130℃ 冷却温度:60℃ ※ご要望に合わせて装置を設計・製作いたします...

    メーカー・取り扱い企業: ノリタケ株式会社 エンジニアリング事業部 流体テクノ部

  • リニアグラジエント混合装置『LiSMixer』 製品画像

    リニアグラジエント混合装置『LiSMixer』

    「滴下混合」の連続化、バッチ処理からの脱却

    【標準装置仕様】 流量:5~100mL/min(ポンプ1台当たり) 推奨粘度:~200mPa・s 耐圧※常温時:0.7MPa 電源:AC100V 50/60Hz その他、用途・条件に合わせて最適な装置設計も可能です。 お気軽にお問合せ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ノリタケ株式会社 エンジニアリング事業部 流体テクノ部

  • 『多機能リポソーム自動製造装置』 製品画像

    『多機能リポソーム自動製造装置』

    未経験者でも簡単操作!薄膜法を改良し、自動化を行った製造装置です

    【仕様】 ■作製量:2~30ml/回(10回まで繰返し可能) ■作製時間:約2時間/回(含:洗浄乾燥処理) ■洗浄:自動洗浄・乾燥(アルコール、精製水) ■サイズ:約760W×495D×690H mm(突起物含まず) ■質量:約95kg(除く:超音波破砕機電源) ■電源:AC100V 50/60Hz 15A ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ノリタケ株式会社 エンジニアリング事業部 流体テクノ部

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