除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

【測定事例】セメント凝結遅延時間

パルスNMRを用いてセメントの凝結遅延時間を予測した事例をご紹介いたし…

ルスNMRにて簡便に凝結時間の 比較が可能か実験した事例をご紹介いたします。 セメントが50wt%になる様に水を加えたもの、およびセメントの凝結遅延 調整剤を加えた分散体2種類を用意し、60℃においてそれぞれの粘度・ 緩和時間T1を測定。 凝結遅延剤を添加した分散体の方が低せん断域での初期粘度が10倍ほど 大きくなり、初期の緩和時間はセメントと水のみの分散体の方が短く 得ら...

メーカー・取り扱い企業： マジェリカ・ジャパン株式会社