除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-800シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～300Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-200シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～5700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-100シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～8550Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-400シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～2100Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-300シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～2900Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

GasPro PTFE　ガスフィルター　TEM-500シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…

[流量] 0～700Ｌ/ｍｉｎ [3nmフィルター] 多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度 [最大使用温度] 不活性ガス中 80℃ CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部