除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

PennOC『Photoreactor m1』

可視光レドックス反応のための照明・攪拌装置および冷却装置を装備！

『Photoreactor m1』は、450nmの光源、撹拌装置、および温度調節機能を 備えたオールインワンシステムです。 遮光インターロックにより、ユーザーが有害な光線にさらされることを防ぎます。 可視光レドックス反応のための照明・攪拌装置および冷却装置を備えています。 更に照明の強度や攪拌の速度、空気の流れなどの反応に関連するパラメータを ユーザーが簡便に制御するためのタッチ...

メーカー・取り扱い企業： ライフィクスアナリティカル株式会社