除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

クリーンオーブン『AHO-530』

医療器材等の無菌乾燥に好適！高い洗浄度と温度コントロールを実現

当社が取り扱うクリーンオーブン、『AHO-530』をご紹介します。 ステップ運転を可能にするプログラム温度調節計搭載。 下部に備品類を収納可能なスペースもあります。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■パチン錠によるフィルター固定でメンテナンス ■ステップ運転を可能にするプログラム温度調節計搭載 ■設定時間・温度は最大16パターン・16ステップ ■下...

メーカー・取り扱い企業： 日本エアーテック株式会社 本社

クリーンルーム内部機器『クリーンエアーオーブン』

レジスト膜の乾燥などに好適！製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望…

半導体工業におけるウエハーの焼鈍やレジスト膜の乾燥、 光学分野での 洗浄後のレンズ乾燥および医療器材の無菌乾燥等は高温・高清浄度環境で 制御された「クリーンオーブン」が好適です。 当社では、庫内温度60～200℃の”標準”や、蒸気オーブン・大型オーブン といった方式の”特殊”な『クリーンエアーオーブン』を取り扱っております。 また、製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望に対応...

メーカー・取り扱い企業： 日本エアーテック株式会社 本社