• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • クリーンルーム内部機器『サーマルクリーンチャンバー』 製品画像

    クリーンルーム内部機器『サーマルクリーンチャンバー』

    温度ゆらぎ精度は0.1℃~0.002℃まで可能!5~40%RHの低湿度…

    『サーマルクリーンチャンバー』は、清浄度がISOクラス4(クラス10)の クリーンルーム内部機器です。 PID制御、超精密部品および温度精度に合わせた気流システムを採用しており、 温度ゆらぎ精度は0.1℃~0.002℃まで可能。 また、湿度制御は40~60%RHの標準仕様範囲のほか、5~40%RHの低湿度仕様の ご要望にもお応えします。 【特長】 ■清浄度はISOクラス4...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エアーテック株式会社 本社

  • クリーンオーブン『AHO-530』 製品画像

    クリーンオーブン『AHO-530』

    医療器材等の無菌乾燥に好適!高い洗浄度と温度コントロールを実現

    当社が取り扱うクリーンオーブン、『AHO-530』をご紹介します。 ステップ運転を可能にするプログラム温度調節計搭載。 下部に備品類を収納可能なスペースもあります。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■パチン錠によるフィルター固定でメンテナンス ■ステップ運転を可能にするプログラム温度調節計搭載 ■設定時間・温度は最大16パターン・16ステップ ■下...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エアーテック株式会社 本社

  • クリーンルーム内部機器『クリーンエアーオーブン』 製品画像

    クリーンルーム内部機器『クリーンエアーオーブン』

    レジスト膜の乾燥などに好適!製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望…

    半導体工業におけるウエハーの焼鈍やレジスト膜の乾燥、 光学分野での 洗浄後のレンズ乾燥および医療器材の無菌乾燥等は高温・高清浄度環境で 制御された「クリーンオーブン」が好適です。 当社では、庫内温度60~200℃の”標準”や、蒸気オーブン・大型オーブン といった方式の”特殊”な『クリーンエアーオーブン』を取り扱っております。 また、製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エアーテック株式会社 本社

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