• バイアル連続巻締め機『VM-NS 008S』 製品画像

    バイアル連続巻締め機『VM-NS 008S』

    PRワンプッシュで簡単!自動供給・取り出しモデルの連続巻締め機!

    『VM-NS 008S』は、自動供給・取り出しモデルのバイアル連続巻締め機です。 操作方法は、ゴム栓・アルミキャップをセットした瓶を供給し スタートボタンを押すだけ。寸動スイッチ付で調整に便利です。 【特長】 ■自動供給・取り出しモデル ■ゴム栓、アルミキャップをセットしたバイアルを並べて運転スイッチを押すだけ ■巻締ローラー位置は微調整可能 ■過負荷防止構造 ■供給部と取り出し部は左右選択可...

    メーカー・取り扱い企業: 内外硝子工業株式会社

  • 乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈!

    PR不等速2軸に各々配列の撹拌羽根で、付着性が高い対象物も効率よく混練・造…

     新日南『混練・造粒機』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、製品化しました。    混練機『ダウミキサーPX型』は、回転速度が異なる2軸(不等速2軸)にらせん状配列の1条/2条巻の多様なパドル構成(複数特許取得)で、セルフクリーニング効果が常に作用して付着性が高い対象物でも効率よい混練効果と圧密効果が得られます。また、この作用で等速2軸式では避けられない、繰返し応力...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

  • レジスト剥離液『アンラスト R510』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト R510』

    剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:90~110℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/1tコンテナ/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

    水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M10』

    浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

    。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

    浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!

    20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M6』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M6』

    ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます

    ーリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.1D』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

    水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

    溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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