• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 【省人化に貢献】麺帯外観検査装置 既存ラインに後付け可能! 製品画像

    【省人化に貢献】麺帯外観検査装置 既存ラインに後付け可能!

    PRラインカメラ表裏面検査仕様!麺帯の表面異物を自動外観検査します

    『麺帯外観検査装置』は、麺帯の微妙な変化に照明の明るさを自動で 変化させ、検査基準のコントラストに合わせる事が出来る為、誤検知を 減らす事が可能な検査装置です。 NG箇所をスクロールマップで表示している為、NG箇所の発生場所が一目瞭然。 検査中にNG箇所の画像のみを表示することができます。 【特長】 ■粉塵対策(カメラ:BOX収納、照明:エアーブロー付き) ■NG箇所をスクロールマップで表示...

    • 麺帯制御盤.png
    • 検出例.png

    メーカー・取り扱い企業: 藤田グループ

  • 【新製品】配管加熱機器『ヒートブロックユニット』 製品画像

    【新製品】配管加熱機器『ヒートブロックユニット』

    施工時間を70%短縮!温度分布のばらつきを約1/2に!マグネット固定で…

    【仕様】 <ヒートスペック> ■使用温度:RT~180℃まで ■絶縁抵抗:DC500/50MΩ以上 ■耐電圧 :AC500V/1min異常なし ■W密度 :0.1~0.3W/cm2 <ブロックスペック> ■適合配管:1/8~1/2インチ ■最小配管ピッチ:40mm以上(要相談) ■用途:半導体プロセ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンワバネス

  • 『シリコンラバーヒーター』 製品画像

    『シリコンラバーヒーター』

    【UL規格に準拠】配管など狭い場所でも使用可。自由形状加工・カスタマイ…

    使用温度230℃  HTシリーズ:連続使用温度260℃/最高使用温度280℃ ◎電気特性(SR・HT共)  容量公差:表値の±10%  絶縁抵抗:DC300V/1500V以上  絶縁耐圧:AC1500V/1分間 ◎標準品以外の製作寸法  最小25mm×50mm  最大450mm×3000mm  標準厚さ1.5mm(電源リード引き出し部は5mm程度) 【製作例】 ・角ブロッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンワバネス

  • 配管加熱機器『ヒートブロックユニット 技術資料』 ※無料進呈中! 製品画像

    配管加熱機器『ヒートブロックユニット 技術資料』 ※無料進呈中!

    【新製品】マグネット固定式 配管加熱機器の技術資料を無料プレゼント!施…

    【仕様】 <ヒートスペック> ■使用温度:RT~180℃まで ■絶縁抵抗:DC500/50MΩ以上 ■耐電圧 :AC500V/1min異常なし ■W密度 :0.1~0.3W/cm2 <ブロックスペック> ■適合配管:1/8~1/2インチ ■最小配管ピッチ:40mm以上(要相談) ■用途:半導体プロセ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シンワバネス

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