• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series 製品画像

    IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series

    真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!

    射が可能  ・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】  ・超硬工具用保護膜(c-BN)  ・食品用バリア膜(アルミ)  ・太陽電池用下地膜(アルミ)  ・光学用フィルタ膜(ZrO₂、AI₂O₃等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

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