【分析事例】α-アルミナ（α-Al2O3）のTDS分析

セラミックスの昇温脱離ガス分析

熱的に安定なα-アルミナは耐熱材料、半導体パッケージ、半導体製造装置の部品など、幅広い用途で 利用されており、中でも緻密質のα-アルミナは真空装置の部材としても用いられます。しかしこのような 部材が昇温された際に発生するガスは製品や装置に悪影響を及ぼすことがあるため、部材からの脱ガ スについて把握しておくことが重要です。今回、多孔質と緻密質のα-アルミナについて、TDS分析（昇温 脱離ガス...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】表面酸化膜のある異物の状態評価

水酸化アルミニウムAl(OH)3と酸化アルミニウムAl2O3の評価が可…

金属の異物を定性評価したい場合、最表面のみを分析すると異物表面に存在する酸化膜の情報となってしまうため、異物そのものの情報が得られないことがあります。 TOF-SIMSにより深さ方向に分析を行うことで、酸化膜より深い位置にある異物そのものの組成・状態評価が可能です。 本資料では、Al系の異物と思われる3箇所の状態を評価した事例をご紹介します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

No.15 シリカアルミナ比の異なるY型ゼオライトのN2...

【資料】シリカアルミナ比の異なるY型ゼオライトのN2・Ar分子の吸着挙…

当資料は、SiO2/Al2O3の異なるY型ゼオライトのN2・Ar分子の吸着挙動に ついて、画像やグラフを用いてご紹介しています。 四重極モーメントを持つN2分子は、ゼオライトなどのAlカチオンと強く 相互作用し吸着（特異吸着）するといわれています。 N2@77.4 K、Ar@87.4 K吸着等温線および、それぞれのαsカーブ[相対圧:p/p0 (横軸)、各相対圧における吸着量(V...

メーカー・取り扱い企業： マイクロトラック・ベル株式会社

各種ワークの受託開発・加工サービス

お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた、受託開発・加工をご提案…

ナガセ研磨機材では、各種ワークの表面からエッジまで、 お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた受託開発・加工を承ります。 【特長】 ■小ロット試作～量産対応、消耗品・研磨装置・プロセス・技術提供等、 　お客様のニーズに合わせて対応 ■専門のプロセス技術開発担当により、開発からの対応可能 ■評価設備も充実、加工前後の品質確認や評価も対応 ■チタンやSiC等難削材の鏡面加工も対...

メーカー・取り扱い企業： ナガセ研磨機材株式会社 本社

NMR分析サービス

NMRで有機物から無機物まで、組成や分子構造を幅広く分析！ 検討から…

【分析事例】 ・電池/半導体：電解液の溶液 NMR や大気非曝露での多核・固体 NMR 測定 ・樹脂/ポリマー：樹脂成分やポリマーの組成・劣化解析が可能 ・食品/環境：食品・サプリメント中の成分の定量や劣化状態の分析 ・医薬/バイオ：薬物と受容体の相互作用の有無や強弱の測定が可能...○感度良く分析できます！ ・共鳴周波数600MHz (1H) での高感度測定により、不純物レベルでの分析...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

触媒・樹脂の解析

高度な分析と”考察力”でお客様の問題解決！触媒材料の評価についてご紹介

ガス浄化性能を決める触媒貴金属(PGM)・助触媒・担体の原料評価から コート後の状態・観察の分析方法をご提案いたします。 触媒担体(主に酸化物)は、その元素組成や粒径分布、バインダー等の添加物によって フィルタへのコート性 や、PGMの分散性に関係し、結果として排ガス浄化性能に 大きな影響を与えます。 お客様の目的に応じ、分析方法をご提案します。 お気軽にお問合せください。 ...

メーカー・取り扱い企業： イビデンエンジニアリング株式会社 環境技術事業部

SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析

SiC基板へアルミニウムをBOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介…

SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、SiC基板へアルミニウムを BOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 SiC 基板は絶縁性が高いため、1次イオンビームを試料表面に照射すると 電荷が蓄積するため正確な測定が出来ません。そこで 1次イオンビーム 照射部分に低速電子ビームを同時照射し、電荷の蓄積を抑制することで 正確な測定が行えるようになりました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

【分析事例】有機EL素子の電極/有機層界面の状態評価

不活性ガス雰囲気下で前処理からXPS測定まで行います

バッファー層/Alq3界面を物理的に剥離（ピーリング）し、剥離面（バッファー層側）のXPS分析を行いました。不活性ガス雰囲気下でピーリングすることで化学構造を破壊せずに界面を露出でき、さらに不活性ガス雰囲気を保ったままXPS装置に搬入することで剥離後の変質（酸化・吸湿など）を抑えました。バッファー層の主成分はLiFで、その一部が酸化している可能性が示唆されました。雰囲気を制御することで、成膜方法・...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST