• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire C1』 製品画像

    HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire C1』

    分析時間の短縮が可能!高極性化合物の保持を極限まで高める意外な性能を秘…

    HPLC/UHPLCのメソッド開発におけるカラムのファーストチョイスは ほぼC18からで、C18からの選択性を変更するためにC30やC8、 HILICといったカラムがセカンドチョイスとして選択されます。 『FlexFire C1』は、洗練されたシリカゲルを採用したカラム...

    メーカー・取り扱い企業: 野村化学株式会社 本社

  • HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire AQ C18』 製品画像

    HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire AQ C18

    逆相系で高極性化合物の保持と分離に!これまでと同様に取り扱うことができ…

    『FlexFire AQ C18』は、ファーストでもセカンドでも幅広い範囲で 活躍できるカラムです。 逆相系カラムにおいて高極性化合物の保持と分離には困難を極めます。 その結果、HILICカラムを選択するケースが多いと...

    メーカー・取り扱い企業: 野村化学株式会社 本社

  • HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire C18』 製品画像

    HPLC/UHPLC用カラム『FlexFire C18

    HPLC⇔UHPLCをもっと身近に!洗練されたシリカゲルを採用したカラ…

    『FlexFire C18』は、極めて汎用性が高く、高カーボン化による 疎水性相互作用を重視した特長があるHPLC/UHPLC用カラムです。 HPLC(UHPLC)における基本に忠実な結果を与え、今後の方針を定める...

    メーカー・取り扱い企業: 野村化学株式会社 本社

  • カラム『FlexFire C8』 製品画像

    カラム『FlexFire C8』

    メソッドの分離やピーク形状の改善に!時間短縮ではなく、保持と分離を提供…

    『FlexFire C8』は、FlexFire C18と同じく疎水性相互作用をメインに 開発されたカラムです。 従来はアルキルの短さから時間短縮にメリットがありましたが、 時間短縮ではなく、保持と分離を提供。 構築されたメソッドの分離...

    メーカー・取り扱い企業: 野村化学株式会社 本社

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