除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化学品事業

東アジアに根をおろし、ニッチケミカル分野でひと味違う、きめの細かいサー…

■ポリオキシエチレン硫酸Na ■α-オレフィン硫酸Na ＜化粧品一般成分＞ ■ポリアクリル酸Na ■ウレタンマイクロカプセル ■1.3-プロパンジオール ＜シリコーン＞ ■アルキル（C18/C20-24/C30-45）ジメチコン ■アモジメチコン ＜防腐・殺菌剤＞ ■パラベンフリー（プチルカルバミン酸ヨウ化プロピニル） ■塩化ベンザルコニウム ■フェノキシエタノール ...

メーカー・取り扱い企業： 岡畑興産株式会社 東京支店

化粧品原料『コスモート』　製品カタログ

質感向上及び機能性を付与させる薬剤を開発し提供いたします

当カタログは、センカが取り扱う化粧品原料『コスモート』をご紹介しております。 化粧品表示名称：ポリクオタニウムに該当するコンディショニングポリマー（ヘアケア・ボディーケア用「VH･VHF」、カラーリング用「V-22F」、フォーマー用「VHL」）や、増粘剤「C-7S2」など、多数ラインアップ。 当社は、繊維加工薬剤で培われた高分子化学の研究・開発のノウハウを生かし、シャンプーやボディ...

メーカー・取り扱い企業： センカ株式会社

CAS：18854-56-3

1-(2-propoxyethoxy)propane

Molecular Formula：C8H18O2 Molecular Weight：146.2273...Density：0.843g/cm3 Boiling point：164.4°C at 760 mmHg Refractive index：1.406 Flash point：34.3°C Vapour Pressur：2.58mmHg at 25°C...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

質感向上及び機能性を付与させる化粧品原料『コスモート』

ヘアコンディショニング効果に優れた頭髪化粧品用添加剤やハンドリング性に…

センカは繊維加工薬剤で培われた高分子化学の研究・開発のノウハウを生かし、化粧品用カチオンポリマーや化粧品用エマルション型増粘剤など質感向上及び機能性を付与させる薬剤を開発し提供しております。 当社の製品はシャンプーやボディソープなどのパーソナルケア製品や化粧品に配合され、皆様の元に届いております。 このカタログには化粧品表示名称：ポリクオタニウムに該当するコンディショニングポリマー（ヘアケ...

メーカー・取り扱い企業： センカ株式会社