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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】ローターステーターシステムによるシームレスなスケールアップ…
選択が可能になっており、分散機1台で様々なアプリケーションに対応できます。 ■UTL/DRモジュール マルチステージ式櫛歯形状の分散ツール。乳化、湿式粉砕に適しています。 ■MK/MKOモジュール 円錐形状のコロイドミル。クリアランス調整可能。高濃度、高粘度スラリーまたは、乳化に適しています。 ■ご使用用途 ・水中油型エマルジョンの乳化処理...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年1月30日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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工程改善&生産効率化 : 連続式 湿式粉砕機 乳化機 分散機
【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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MLCC(積層セラミックコンデンサ)原料の湿式粉砕 分散 乳化
【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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カーボンナノチューブ、カーボンブラックの湿式粉砕 分散 乳化
【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】 メディアレスで湿式粉砕! ギャップクリアランスの調整が可…
最終更新日:2024年2月1日 MKO2000はローターとステーターのギャップクリアランスを任意で調整できるコーンミルです。 乳化、分散、湿式粉砕などのプロセスをメディアレスで行えます。 金属コンタミゼロのジルコニア製ロータース...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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【テスト可】ローターステーターシステムによるシームレスなスケールアップ…
選択が可能になっており、分散機1台で様々なアプリケーションに対応できます。 ■UTL/DRモジュール マルチステージ式櫛歯形状の分散ツール。乳化、湿式粉砕に適しています。 ■MK/MKOモジュール 円錐形状のコロイドミル。クリアランス調整可能。高濃度、高粘度スラリーまたは、乳化に適しています。 ■MHDモジュール 粉体と液体の連続混合分散システム。高濃度スラリー製造に適...
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