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    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

    『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • 【食品製造業の環境改善】食液用スプレーステーション 製品画像

    【食品製造業の環境改善】食液用スプレーステーション

    PR食品用コーティング剤の飛散や周囲の汚れを防止。ダクト工事不要で設置でき…

    チョコレート、離型油、バター、卵、フードカラーなど、 食品用コーティング剤のオーバーミストで、 厨房が霧がかったようになっていませんか? アネスト岩田では、強力な吸引力でオーバーミストの飛散防止に貢献する 『食液スプレーステーション』を提供しています。 食品向けのスプレー塗布における「床・周辺機器への付着」「視界の悪化」などを防止。 清掃の手間削減や作業環境の改善に貢献します。...

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    メーカー・取り扱い企業: アネスト岩田株式会社

  • 大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」 製品画像

    大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」

    大気中のトリチウム濃度を分析測定!サンプリング実験装置

    大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」は、大気のトリチウム濃度を分析測定するためのサンプリング実験装置です。 大気中の水素成分を化学形別(HTO・HT・CH3T)に捕集し、捕集後、モリキュラーシーブ(吸湿剤)を加熱脱湿して、水分の回収までを自動で行います。 【特徴】 ○捕集にはモリキュラーシーブと酸化触媒を組み合わせ、HTOはモリキュラーシーブで回収 ○HT・CH3Tは酸...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」 製品画像

    半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

    純水1/4RC 圧縮空気1/4RC!薬液をスプレー塗布する装置

    「レジスト液加温塗布装置」は、半導体関連で使用されるシリコンウェハー・ガラス基盤等のワークを、任意のスピードで回転させながら、常温または加温した薬液をスプレー塗布する装置です。 お客様のご要望に、技術ノウハウと創造力で、機能性、操作性、安全性を追及した、価値のある製品をご提案いたします。 【材質】 ○本体 :鋼板製 ○塗布部:塩ビ製 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロ...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    「R2D-EC4型」は、各薬品を純水で1:2又は1:4に希釈し、補給タンクに自動供給します。 その他の希釈倍率にも対応いたします。 計量は2液ともガラス計量管で、固定計量を行いますので、計量精度は±0.3%以下の高精度となっております。 【特徴】 ○±0.3%以下の高精度 ○体積式で確実に計量 ○2レンジの希釈が可能 ○ご要望により新規設計製作 詳しくはお問い合わせ、または...

    メーカー・取り扱い企業: オーエヌ総合電機株式会社

  • 自動希釈装置 「R2D-EC4型」 製品画像

    自動希釈装置 「R2D-EC4型」

    各薬品を自動で希釈!確実に計量を行う高性能自動希釈装置

    「R2D-EC4型」は、各薬品を純水で1:2又は1:4に希釈し、補給タンクに自動供給します。 その他の希釈倍率にも対応いたします。 計量は2液ともガラス計量管で、固定計量を行いますので、計量精度は±0.3%以下の高精度となっております。 【特徴】 ○±0.3%以下の高精度 ○体積式で確実に計量 ○2レンジの希釈が可能 ○ご要望により新規設計製作 詳しくはお問い合わせ、または...

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