除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

「GC×GC-TOFMSよる脂肪酸メチルエステルの定量」

「脂肪酸メチルエステルの定量」のスペシャルレポートです。

x 0.25mm x 0.25μm(Agilent USA) ○二次カラム：BPX-50 2m x 0.1mm x 0.1μm(SGE、Australia) ○キャリアガス：ヘリウム1ml/min、一定流量 ○一次オーブン設定：40℃、2min、30℃/min‒160℃、2℃/min‒300℃、5分保持 ○二次オーブン設定：45℃、2min、30℃/min‒160℃、2℃/min‒30...

メーカー・取り扱い企業： LECOジャパン合同会社