除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-Phenyl』

インタクトタンパク質のLC/MS分析（トップダウンプロテオーム解析）に…

・インタクトタンパク質分析 ■タンパク質注入量（目安）：1～50 ng (1～50 µg/ml溶液で1µLインジェクション、250 mmカラム） ■流量範囲：推奨範囲　300～1000 nL/min ■pH範囲：推奨範囲　2.0～8.0 ※未修飾のモノリスシリカキャピラリーチューブ（ULTRON HF-MBS ）もございます。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 信和化工株式会社

モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-ODS』

LC/MSによるタンパク質分析 (プロテオミクス、ショットガン法) で…

m、700 mm x 0.1 mm ■シリカ骨格：約1 μm、流路径：1～1.5 μm ■使用目的：高分解能ペプチドマッピングおよびオミックス ■流量範囲：推奨範囲　300〜1000 nL/min ■pH範囲：推奨範囲　2.0〜8.0 ※未修飾のモノリスベアシリカキャピラリーチューブ（ULTRON HF-MBS ）もございます。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽に...

メーカー・取り扱い企業： 信和化工株式会社

モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-C4』

インタクトタンパク質のLC/MS分析（トップダウンプロテオーム解析）に…

質分析 高疎水性化合物分析 ■タンパク質注入量（目安）：1～50 ng (1～50 µg/ml溶液で1µLインジェクション、250 mmカラム） ■流量範囲：推奨範囲　300～1000 nL/min ■pH範囲：推奨範囲　2.0〜8.0 ※未修飾のモノリスシリカキャピラリーチューブ（ULTRON HF-MBS ）もございます。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 信和化工株式会社